伯东 KRI 射频离子源和分子泵组用于氧化物溅射镀膜设备
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射频离子源RFICP 380成功用于辅助蒸镀 TiO_2薄膜
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镀膜制品掉膜的主要原因是…
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离子源辅助蒸发沉积镀铝膜改善铝膜结构及耐腐蚀性
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KRI 射频离子源成功用于辅助制备 MoS2 自润滑涂层
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考夫曼离子源 KDC 10 用于 IBF 离子束抛光工艺
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美国 KRI 霍尔离子源用于蒸镀天文望远镜镜片全反射膜
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伯东 KRI 射频离子持续轰击 TiN 薄膜获得更优秀性能
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伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助镀制 HfO
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KRI 聚焦射频离子源辅助磁控溅射镀制 3D 玻璃膜
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