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KRI 考夫曼离子源 KDC 100辅助镀制五金连接件铬膜

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KRI 聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜

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离子源用于大口径光学元件 KDP 晶体的溅射与刻蚀

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霍尔离子源 eH 3000 辅助镀制高质量光学薄膜

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离子源 KDC 160 辅助沉积高铝超硬涂层增强切削性能

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KRI 考夫曼射频离子源用于纯钛表面氨基化改性的研究

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考夫曼射频离子源RFICP 220 用于钟表行业镀制纳米薄膜

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伯东 KRI 考夫曼射频离子源在 PCB 钻头铣刀上的应用

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伯东 KRI 考夫曼霍尔离子源eH 3000用于玻璃基片清洗

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KRI考夫曼射频离子源RFICP 140用于镀制TiN 薄膜

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