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考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射 WS2薄膜

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KRI 考夫曼射频离子源RFICP140溅射沉积铝锰合金薄膜

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射频离子源RFICP220辅助溅射沉积MnZn铁氧体薄膜

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考夫曼离子源RFICP380辅助磁控溅射制TiSi-Ag薄膜

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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积Ir 膜

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考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 ZrAlN薄膜

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考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备微晶硅薄膜

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KRI考夫曼射频离子源RFICP140溅射沉积立方氮化硼薄膜

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KRi 大面积射频离子源应用于 IBE 离子束蚀刻系统

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