曝光机的优点：

微米和亚微米光刻,最小0.6微米光刻精度

紫外光直写曝光,无需掩模，大幅节约了掩模加工费用

灵活性高，可直接通过电脑设计光刻图形，并可根据设计要求随意调整。

可升级开放性系统设计。

按照客户要求可从低端到高端自由配置

使用维护简单, 设备耗材价格低。

应用范围广，目前广泛应用于半导体、生物芯片、微机电系统、传感器、微化学、光学等领域。

以上内容便是曝光机的介绍。

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