设备性能
            SDF(SSF)系列激光刻膜机采用半导体泵浦激光器(或全固态激光器)，光点固定不动，工作台带动电池板两维运动，或两维分离，光点沿X轴运动，电池板沿Y轴运动，刻膜专用X-Y工作平台，伺服驱动、滚珠丝杠与导轨传动，或X轴直线电机驱动，通过界面友好的专用控制软件，方便刻膜路径的编辑和修改，利用分光系统，同时完成两路或四路激光同步输出。
  
  
应用领域
            薄膜太阳电池TCO膜、a-Si膜（μc-Si膜）、Al膜（ZnO膜)的刻膜或划线。

主要技术参数
规格型号    SDF50B    SDF10D    SSF10B    SSF5D
激光波长    1064nm    532nm    1064nm    532nm
激光功率    50W    10W    10W    5W
激光重复频率    200Hz～50kHz    1kHz～100kHz
刻膜线宽    80μm    50μm
刻膜速度    200mm/s    600mm/s
刻膜精度    ±10μm    ±10μm
工作台幅面    1250×640mm  或  1100×1400mm    1250×640mm  或  1100×1400mm
冷却方式    循环水冷    风冷