离子分析质谱仪    离子分析
外部产生的离子，例如等离子体产生的离子的分析。在此过程中离子光学器件替代了离子源使用。
次级离子质谱仪
SIMS(二次离子质谱仪)是一项经证明可靠成熟的表面分析技术。它可用作独立测量方法,也与其它表面分析方法连用，如SCA(化学分析用电子光谱法)和AES（俄歇电子能谱法）。SIMS具有高的灵敏度和能检测对分析结果又决定性作用的同位数，因此,SIMS常被选用。

质量数范围    1-340    1-512    1-1024
检测极限    用于正粒子    cps    0.1    0.1    0.1
    用于负粒子    cps    10    10    10
动态范围    用于正粒子    cps    107    107    107
    用于负粒子    cps    105    105    105
工作压力，最大        mbar    1.10-5    1.10-5    1.10-5
分析仪    　        QMA  410    QMA  400    QMA  400
测杆系统，直径／长度        mm    Mo/16/300    Mo/8/200    Mo/8/200
90°偏轴SEM    　        SEM  217    SEM  217    SEM  217
离子光学镜，配有电子束止挡、绝缘的            3透镜    3透镜    3透镜
高压电源    　        HV421    HV421    HV421
RF发生器        　    QMH  410-3    QMH  400-5    QMH  410-1
离子计数器前置放大器        　    CP  400    CP  400    CP  400
离子计数器    　    　    IC/AO  421    IC/AO  421    IC/AO  421
工作温度/分析仪    。C    　    150    150    150
连接法兰            DN  100  DF-F    DN  63  DF-F    DN  63  DF-F
需要进一步了解请联系Website:  http://www.hakuto-vacuum.com/