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干膜光刻胶#初由泛林与 ASML 和 IMEC合作开发，提升了 EUV 光刻的分辨率、生产率和良率，从而解决了与下一代 DRAM 和逻辑技术相关的关键挑战　该技术提供出色的剂量-尺寸比和剂量-缺陷率性能，从而提高了 EUV 扫描仪的生产率并降低持有成本　


此外，与传统抗蚀剂工艺相比，泛林的干膜光刻胶工艺消耗的能源更少，原材料消耗量比之前要少五到十倍，从而提供了关键的可持续发展优势　 Entegris#执行官 Bertrand Loy 表示：　泛林的干膜光刻胶技术反映了材料层面的关键创新，并且提供多项优势，包括分辨率更佳、成本效益更高以及具吸引力的可持续发展效益　

我们很自豪能够参与这项创新合作，以加速干膜光刻胶技术的采用，并在客户运用这项重要技术创造下一代半导体之际，成为他们值得信赖的工艺材料供应商　 三菱化学集团旗下 Gelest 总裁 Jonathan Goff 表示：　我们与泛林和 Entegris 合作开发 EUV 光刻所使用的干膜光刻胶，这表明我们致力于支持芯片制造商在材料科学领域的创新　


这几年，中国本土涌现了多家造车新势力，掌舵人都带着鲜明的个人特色，立着各异的人设