(一)等离子发射源VEGA-500
1.输出功率:0-500W± 1%;
2.射频频率:13.56 MHz±0.005% ;
3.匹配:自动;
4.射频接口:50Ω, N-type;
5.噪音:<50 dB;
6.冷却:风冷;
7.电源:AC187-253V, 50/60Hz
(二)真空泵机组RV3
1.采用进口爱德华真空泵,真空度达 1.5 x 10-3 Torr 2.KF25快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连;
3.管内真空可达10E-2 Torr;
4.防腐型进口英富康数字式真空显示计,其测量范围为5×10-5- 1500mbar,测量精度可达0.1,测量不同气体种类不需要系数转换。
(三)质量流量计D07-26
1.四个精密的质量流量计 :数字显示,自动控制;
流量范围:
2.MFC 1范围:0-100 sccm;
3.MFC 2和3范围:0-200 sccm ;
4.MFC 4范围:0-500 sccm ;
5.一个混气罐,底部装有泄废液口;
6.四个不锈钢针阀安装在供气系统的左侧,可手动控制4种气体;
7.进气口:4个1/4NPS;
8.出气口:4个 1/4NPS。
流量控制:手动旋转式调节
连接方式:双卡套连接
(四)管式炉
1.管式炉采用含钼电阻丝为加热元件,加热区域:双温区,每个温区300mm,炉管长度Φ80mmX1600mm,滑轨式设计,可实现快速降温和升温;
2.加热温区分为两个温区,加热更均匀,采用多段程序控温,两个温控系统单独控温,控温精度高;
3.配有水冷法兰,降低硅胶圈周围的温度,防损坏
加热形式: 含钼电阻丝
4.加热功率: <6KW(以实际功率为准)
5.电源电压: 220V,50Hz
6.炉管尺寸: Φ80mmX1600mm
7.加热区域: 双温区 两个温区长度分别为300mm
8.控温精度: ±1℃
9.炉体结构:炉体带滑轨可实现快速升温,降温
10.温控形式:两个温控表单独控温,控温精度高8.出气口:4个 1/4NPS。
广泛应用于沉积高质量SiO薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)等
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2021
石墨烯结晶设备 沉积薄膜 PECVD
来源:[郑州科佳电炉有限公司]
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供应地:河南省郑州市
产品型号:KJ-PECVD