薄膜应力测试系统，又名薄膜应力计或薄膜应力测量系统！采用非接触MOS激光技术；不但可以准确的对样品表面应力分布进行统计分析，而且还可以进行样品表面二维应力、曲率成像分析；并且这种设计始终保证所有阵列的激光光点始终在同一频率运动或扫描，从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响；同时大大提高了测试的分辨率；适合各种材质和厚度薄膜应力分析；
  典型用户：Harvard University 2套，
  Stanford University，
  Johns Hopkins University，
  Brown University 2套，
  Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，
  西安交通大学，
  中国计量科学研究院等、
  半导体制和微电子造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等；
  相关产品：
  *实时原位薄膜应力仪（kSA MOS Film Stress Tester）：同样采用多光束MOS技术，可装在各种真空沉积设备上（如：MBE, MOCVD, sputtering, PLD, PECVD, and annealing chambers ects），对于薄膜生长过程中的应力变化进行实时原位测量和二维成像分析；
  *薄膜热应力测量系统（kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester）
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