真空离子镀是利用金属在高真空状态下通过弧光或辉光放电产生金属等离子体，金属离子在磁场和电场的作用下高速飞向被镀金属的表面，并且与其他金属离子或非金属离子结合沉积在被镀金属的表面，形成致密光滑的膜层，并且膜层与基体的结合力比其他传统的电镀或其他镀层更好，无成片剥落的现象。并且在镀层过程中无三废污染产生，符合ISO1400环保的要求，是国际上推荐的先进的表面处理方法之一。 多弧离子镀是以物理沉积法(简称PVD）于高真空炉中将金属蒸发，而在被镀基材表面形成一层超薄，超硬的薄膜，即为高科技氮化钛(TIN)、碳化钛(TIC)、氮碳化钛(TICN)、氮化锆(ZrN)、氮化铬(CrN)、氮化铝钛(TiAlN)、其硬度比碳化钨金还硬，这屋薄膜的耐磨耗、抗腐蚀、耐高温及超强附着力的特性，实远非传统镀膜技术所以及。现已广泛的使用于精密模具、刀具、电子、武器、精机械等高科技新产品之零组件上。 本公司采用真空离子镀膜技术 1、镀硬膜基材：SLD、SKD、SKH，钨钢等各种经热处理后之钢材，必须为高温回火。 2、应用的范围：粉末冶金模具,车刀，抽引冲模，圆锯片，冲棒，钻头、铣刀、螺丝刀、成型模、塑料模等等。3、特点：涂覆在切削刀具，成型模具，精密机械零件上可满足高硬度，耐磨耗、耐腐蚀、耐高温及超强附着力等。4、增强硬度，抗疲劳、容易脱模、提高使用寿命