? 彩色触摸屏：数据输入简单快速

    ? 通过触摸屏中直观检测数据和曲线；历史页面可显示历史涂层信息。

    ? 可控镀膜速率，可得到更精细的晶粒结构

    ? 可手动或自动，根据时间或根据厚度进行溅射

? 样品台更换简单：标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转；行星式旋转样品台为多孔样品带来好的喷金效果。

KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小，功能齐全。配备有电压电流反馈，样口台旋转样高度可调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率蒸发功率，可对大部分金属进地均匀蒸发沉积。真空腔体为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

主要特点/优势：

★     玻璃钟罩真空腔室，最直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察；

★     复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥140L/S）；

★     两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；

★     专业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出；

★     可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；

★     衬底可选择加热或水冷，源基距≥40-105mm；

★     可调速旋转靶台使薄膜更均匀

★     可沉积金属（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等），可拓展沉积单层膜

★  7寸显示器定时定点调节电流，达到控制功率效果

小型离子溅射仪 郑州 科探KT-Z1650PVD在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。