KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。

一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，

      磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

水冷型溅射仪，KT-Z1650PVD，是一种紧凑型全自动溅射镀膜机，使用非常简单。由于独特的插件概念，该设备很容易配置溅射或蒸发，只需更换工艺头。涂层前后可进行等离子处理。模块化设计使得避免金属和碳沉积之间的交叉污染变得容易。

高度调节和倾斜。它可以安装一个可选的变速旋转阶段或旋转行星阶段，每个选择持有不同的样本和存根类型。在所有样品阶段，膜厚监测都作为标准。.
?高性能溅射、碳涂层和等离子处理
?获得的碳线轴–最多50个碳涂层，无需用户干预
?独特的即插即用溅射和碳涂层模块
?真空性能和快速泵送时间