半导体行业微波等离子去胶机

KT-S2DQX-C  性能参数
供电电源 AC220V（AC110V可选)
工作电流 整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)
射频电源功率 150W
射频频率 13.56MHz
频率偏移量 ＜0.2MHz
特性阻抗 50欧姆，手动匹配

耦合方式 电容耦合式
真空度 ≤100Pa
腔体材质 高纯石英
清洗物品容积 500ml
清晰物品重量 2.5KG
石英管口径 Φ50
气体流量 手动控制
过程控制 触摸屏自动控制+手动调节流量
清洗时间 触屏控制
开盖方式 铰链侧开式法兰

旋转等离子清洗机，

等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。

 此款等离子清洗机针对粉末或者颗粒的360度表面处理设备，通过旋转机构带动石英搅拌罐使样品处于悬空位置达到360度清洗。

主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。

该清洗机内置高纯石英仓体，采用了新型的电极结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空 气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，更便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验 样品清洗 和教学。