高温蒸镀仪，KT-Z1650CVD，石英＋不锈钢腔体，触摸屏控制，工艺储存功能，自动电控挡板保护样品
在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到最 大电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或更高的真空度。
以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图
真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色
高温蒸镀仪KT-Z1650CVD
控制方式
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
加热方式
数字式功率调整器
镀膜功能
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
最 大功率
≤1200W
最 大输出电压电流
电压≤12V 电流≤120A
真空度
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm
样品台
可旋转φ62 （最 大可安装φ50基底）
样品台转速
8转/分钟
样品蒸发源调节距离
70-140mm
蒸发温度调节
≤1800℃
支持蒸发坩埚类型
钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳
预留真空接口
KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口
可选配扩展
机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa）
数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）
分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）
涡轮分子泵在K950X中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度优于1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。
标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各种样品座。
原样品没有镀膜 
115A 100秒 机械泵
115A 100秒 分子泵抽12分钟 
115A 120秒 分子泵抽20分钟
07
05
2022
高温蒸镀仪 高真空蒸镀仪 桌面式蒸镀仪
来源:[郑州科探仪器设备有限公司]
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产品型号：KT-Z1650CVD
