YES TA系列真空固化/蒸气底漆系统使用六甲基二硅氮烷（HMDS）提供快速，均匀，经济的底漆，以改善光刻胶的附着力。 这些多功能系统还支持图像反转，以与正性抗蚀剂相同的分辨率和易用性形成负性图像。
有效的光致抗蚀剂附着力构成所有后续处理步骤的基础，并且只有完全上底漆的表面才能准确地复制亚微米CD，而不会出现底切或边缘不整齐的情况。 TA系统的真空固化可彻底使基材脱水，从而使HMDS层具有出色的粘合力，即使暴露在大气中数周后仍保持稳定。
真空固化/蒸汽灌注与湿灌注：
?化学沉积的均匀性
?YES TA Series涂层系统接触角在±3度以内
?防潮表面改性
?流程步骤之间的可用时间增加
?增强的光刻胶附着力
?与湿底漆相比，化学消耗量和化学成本更低
除了硅晶片处理之外，TA系列还可以用于砷化镓，铌酸锂和其他奇特材料的低温HMDS底涂。
TA系列的优点：
?N 2预热可防止箱体冷却。
?过滤机制减少了颗粒物的引入。
?电涌抑制系统可在盒带装入期间限制湍流。
涂层系统http://www.gaiascience.cn/SonList-2209167.html
https://www.chem17.com/st471196/erlist_2209167.html