KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。

1．    控制方式：7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

2．    溅射电源：直流溅射电源

3．    镀膜功能：0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

4．    功率：≤1000W

5．    输出电压电流：电压≤1000V  电流≤1A

6．    真空度：机械泵 ≤5Pa（5分钟）   分子泵≤5*10^-3Pa

7．    射频真空：≤10Pa

8．    挡板类型：电控

9．    真空腔室：石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm

10．  样品台：可旋转φ62  （可安装φ50基底）

11．  样品台转速：8转/分钟

12．  样品溅射源调节距离：40-105mm

13．  真空测量：皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa）

14．  预留真空接口：KF25抽气口    KF16放气口  6mm卡套进气口