全息光栅通常用于对杂散光的应用中。其基底镀有光敏材料，将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间，使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹，条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定，干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。由于全息光栅刻线形状以及刻线间距是完全一致的，所以产生的杂散光远少于刻划光栅。全息光栅可以采用两种凹槽轮廓，正弦和闪耀。
沈阳亿贝特光电有限公司
平面全息光栅
刻线
600~4500Lines/mm
闪耀波长
150-1000nm
尺寸公差
±0.5mm
材料
K9
镀膜
铝
类型
反射衍射光栅
编号
刻线密度
光谱范围
闪耀或峰值波长
刻划面积
（l/mm）
（nm)
（nm）
（H×W mm2）
GH-111
1200
190-800
220
64×64
GH-112
1800
190-1000
250
64×64
GH-113
2400
190-800
250
70×100
GH-114
3600
170-500
190
70×100
GH-115
4321
160-450
170
58×58
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26
2024
平面全息光栅 1200/2400/3600线 可来样加工
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全息光栅通常用于对杂散光的应用中。其基底镀有光敏材料，将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间，使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹，条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定，干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。
