Nanonex纳米压印光刻机
Nanonex纳米压印光刻机多功能整片基板纳米压印系统（热压印）
zui大75毫米直径压印面积 热压印
加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟
Nanonex纳米压印光刻机多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）
zui大75毫米直径压印面积 热压印和紫外压印
加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟
58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制
Nanonex纳米压印光刻机多功能整片基板纳米压印系统（热压印）
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟
NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印）
标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印
加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟
200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制
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http://www.mycro.net.cn/mycro-SonList-1028236/ 
http://www.chem17.com/st119375/erlist_1028236.html