厂家优惠提供电子级TEMAZ(ZrO2 Precursor)
CVD/ALD (Chemical Vapr DePOSTTTION /Atomic Layer Depostion )化学气相沉积材料
Dielectrics PMD/IMD
TEOS ,TEPO,TMPO,TEB,TMB
Low K Dielectrics
4MS ,OMCATS
High K Dielectrics
TAETO (Ta2O5 Precursor )
TEMAZ (ALD ZrO2 Precursor)
TMA (Al2O3 Precursor)
Metal Gate and Interconnect Metal
TDMAT (TiN Precursor )
TiCl4 ( Ti /TiN Precursor )
Low-Temp Nitride/Oxide
HCDS
Diffusion
POCl3
供应半導體化學氣相沉積材料，專業研發及製造各種先進 CVD/ALD (Chemical Vapr DePOSTTTION /Atomic Layer Depostion )化學氣相沉積材料。
CVD Precursor(化学气相沉积材料)
CVD Precursor(化學氣相沉積材料)
TDMAT / InCl3/TEOS/TMB/TEB
TDMAT/TiCl4/TMA/TEASAT/InI/InF3/InCl3/High-K/Low-K Material
TEOS,TMB,TEB,TMPO,TEPO,TDMAT,TiCl4等
09
09
2021
厂家优惠提供电子级TEMAZ(ZrO2 Precursor) 半导体用TEMAZ 高纯TEMAZ
来源:[深圳市旺达康新材料有限公司]
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价格：6500.00
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供应地：广东省深圳市
产品型号：电子级TEMAZ
