我公司供应各类陶瓷溅射靶材（化合物溅射靶材），产品按原材料分类列表如下：氧化物靶材、氟化物靶材、碳化物靶材、氮化物靶材、硫化物靶材、硅化物靶材、硼化物靶材、硒化物靶材、碲化物靶材、锑化物靶材、磷化物靶材以及一些混合物靶材，掺杂物靶材等。我公司采用的靶材制作工艺主要有热压，热等静压，冷压烧结，冷等静压烧结，真空熔炼，磁悬浮冷坩埚熔炼，真空电弧熔炼等。  
陶瓷化合物靶材：
1氧化物类陶瓷靶材：氧化锌ZnO，氧化镁MgO，氧化硅，氧化锆，一氧化硅，氧化铝，氧化铁，氧化铜，二氧化钛，一氧化钛，五氧化三钛，氧化铟，氧化镓，氧化钨，氧化锡，氧化钽，氧化铈，氧化钕等。
2氮化物类陶瓷靶材：氮化铝，氮化硼，氮化镓，氮化铌，氮化硅，氮化钽，碳氮化钛，氮化钛，氮化钒，氮化锆等。
3碳化物类陶瓷靶材：碳化硼，碳化铬，碳化铪，碳化钼，碳化铌，碳化硅，碳化钛，碳化钨，碳化钒，碳化锆等。
4其他化合物、混合物及掺杂类陶瓷靶材：硒化铟，硒化锌，碲化铝，碲化镉，碲化铅，锑化铟，锑化镓，磷化铟，磷化镓等。
  5公司还为客户提供各种新型陶瓷化合物靶材靶材的开发和生产