石英玻璃的结构十分松弛，甚至在高温下还允许某些气体的离子通过网络进行扩散，其中以钠离子的扩散为最快。石英玻璃的这一性能对于使用者尤为重要，例如，半导体工业用石英玻璃作为高温容器或扩散管时，由于半导体材料要求很高的纯度，所以要求与石英玻璃接触的作为炉衬的耐火材料必须预先经过高温和清洁处理，除掉钾、钠等碱性杂质，然后才能放入石英玻璃内使用。

石英玻璃脱羟时间取决于石英玻璃的制备工艺及规格尺寸、所采用的脱羟气氛及温度。

在正常熔制情况即氧化或中性气氛下如以SiCl4为原料

氢氧焰为热源高温水解气相沉积合成的石英玻璃和以水晶为原料、氢氧焰为热源炼熔制的石英玻璃中大部分羟基呈稳定状态，制品的规格尺寸大的话，即使脱羟基时间再长也很难将其中的羟基全部脱出。通常0.5~1.0mm厚合成和气炼石英玻璃片在真空或干燥的N2、1050℃的脱羟条件下，经过140h以上方可脱出50%左右的羟基，时间再长几乎不再脱出。

纯度是石英玻璃的重要指标，对理化性能和使用性能影响甚大，如失透性、高温强度、软化点、光的传导、热稳定性、化学稳定性、耐辐射性、荧光特性等；此外，用于半导体工业的石英玻璃，对纯度的要求更为苛刻，微量的杂质将给半导体材料的电性能和寿命以及集成度带来严重的影响。