RIE-PE刻蚀机是一款独立式PE刻蚀RIE刻蚀一体机，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持至大到12"的晶圆片。腔体为超净设计，并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。
    RIE-PE刻蚀机型号：
    NRE-4000：基于PC计算机全自动控制的独立式系统，占地面积26“D x 44"W
    NRE-3500：基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统，占地面积26“D x 26"W
    NRE-3000：基于PC计算机全自动控制的台式系统，占地面积26“D x 26"W
    NRP-4000：RIE/PECVD双系统
    NDR-4000：深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统
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