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离子刻蚀 IBE
特性
特性
上海伯东代理 AdNaNo 铠柏科技超高真空离子刻蚀机 IBE, AdNaNo 数十年来一直致力于超高压沉积技术, 帮客户定制设备完成特殊应用, 在客户预算内提供一流组件和先进的设计!
Base Pressure 5E-10 torr
- 美国 KRI 离子源 RFICP 100
- Tilatable(+/45), continuously rotatble manipulator with water cooling
- Base Pressure 5E-10 torr
- 美国 KRI 离子源 KDC 75
- Tilatable(+/180), continuously rotatble manipulator with water cooling
上海伯东代理铠柏科技制造的超导结制备用电子束蒸镀设备, 铠柏镀膜机专精于金属及氧化物薄膜的制备, 可用于超导量子实验室制备超导结 (量子比特和约瑟夫森结) 和量子器件, 可以制备大面积, 高稳定性和可重复性超导结. 提供各种类型的 MBE, E-beam, Sputter, IBE. 提供客制化设备, 擅长各种类型系统的集成.
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2021
离子刻蚀 IBE 离子刻蚀机 离子蚀刻机 进口离子蚀刻机
来源:[伯东企业(上海)有限公司]
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地址:上海上海市浦东新区上海市外高桥保税区希雅路33号17号楼B座3层,200131
品牌:AdNaNo
价格:面议
元/台
供应地:上海上海市
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