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磁控溅射 Sputter
型号: Sputter 16
型号: Sputter 24, 真空度最高可到 5E-10 torr
Sputter 24 与激光加热器联用可变为反应型磁控溅射, 可成长氧化物薄膜与氮化物薄膜等. 正下方可安装一只离子源, 可以提供样品清洗与辅助镀膜.
上海伯东代理 AdNaNo 铠柏科技超高真空磁控溅射镀膜机. 真空度最高 5E-10 Torr, 特比适合生长高质量的薄膜或超薄膜, 金属与绝缘材料. 使用德国 Pfeiffer 分子泵和美国 KRI 离子源.
特性:
真空度 2E-10 torr
Co Sputter system
4 Sputter Cathodes
4 axis substrate
manipulator with rotation and XYZmovement
SiC Heater
Pumping throughput control
超高真空磁控溅射 Sputter 24 最擅长生长高质量的薄膜或是超薄 膜, 金属与绝缘材料. 在 24寸的小腔体里安装 6只磁控溅射, 保证 高效的抽气速度, 与友厂对比,氢和氧的污染系数好数十倍. 可制作与外延品质类似的薄膜..烘烤时可把磁铁拆下以保护磁铁不退磁. 客户可选择 RHEED, 在磁铁拆下时可检测样品薄膜的质量. Sputter 24 均匀性及重现性非常出色, 可以使用DC, RF, 脉冲直流电源. 标准材料与磁性材料均可使用. 可安排成共溅射与垂直溅射, 依客户指定设计安装.
特性:
Custom-type SS316L electro-polished chamber
? 5E-10 Torr Base Pressure
? 2-in substrate size
? 4-axes sample manipulator (XYZ, and Rotation)
? SiC (or PBN) heating element with sample heating temperature: 900°C
? 3 x 2-inch Magnetron Sputter cathodes (confocal or parallel)
? DC, RF, or pulsed-DC power supplies
? Thickness monitor
? Pressure control system: upstream
? FBBeam System Control Software
11
15
2021
磁控溅射镀膜机 Sputter
来源:[伯东企业（上海）有限公司]
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品牌：AdNaNo
价格：面议
元/台
供应地：上海上海市
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