一、设备名称：硅片气氛保护实验辊道炉

二、设备用途：主要生产硅片（156x156x0.2mm）氧化性无尘生产实验

三、 主要技术参数

3.1   炉膛尺寸：  1380×500×100 (L×W×H)mm

3.2   外形尺寸：  1980×1500×1100（L×W×H）mm

3.3   额定温度：  1300℃

3.4   工作温度：  1000℃

3.5   控温精度：  ≤±2℃

3.6   炉内温差:   ≤±5℃

3.7   炉外温度：  ≤±40℃

3.8   控温组数：  3温区3 个控温表

3.9   工作速度： 全窑按5min计算，400mm/min，

3.10  调速范围： 120～700mm/min，

3.11  加热方式： 电加热，炉内的上部安装

3.12  加热元件： 硅碳棒,上部安装

3.13  加热功率： 36 KW

3.14  保温功率： 25KW

3.15  加热长度： 1080mm

3.16  炉衬材质： 整条设备炉内采用刚玉材质作为炉膛

3.17  保温材料： 轻质保温砖和纤维棉

3.18  保温层次:   底部330mm，两侧面各350mm,炉顶400mm

3.19  控 制 柜：  独立全自动控制

3.20  设备结构：  共1段

3.21  冷却方式： 自然冷却

3.22  输送方式： 45°斜齿轮传动

3.23  速度控制： 无极变频控制

3.24  进气类别： 氮气和氧气