一、设备用途

用于玻璃基片在H2S气氛里硫化等各种工艺。

二、产品简介

  结构为卧式，石英管腔体保证腔体清洁，前端可通入多种气体，后端由真空泵获得真空，并通过调节阀门来调节腔体内真空度。

◆用工业微机对工艺时间、温度、气体流量、阀门动作、反应室压力实现自动控制。

◆采用进口压力控制系统，闭环控制，稳定性高。

◆采用进口耐腐蚀不锈钢管件、阀门，确保气路气密性。

◆具有完善的报警功能及安全互锁装置。

◆具有良好的人机界面，灵活的工艺性能。

三、主要技术参数

◆结构：     单管卧式、双管

◆工作温度：   300～1200℃

◆真空度：   2Pa、10（-5）Pa

◆真空室直径：Φ90～400mm

◆恒温区长度：400～1000 mm

◆控制精度： ±1.0℃

◆加热功率：   5～55 KVA

◆控制系统：   进口仪表＋PLC＋触摸屏

◆安全连锁保护：超温、断偶、缺水、压力异常保护报警