一、扩散炉用途
二、扩散炉特点
◆软着陆载片装置
软着陆送料装置,避免了SiC桨的遮挡影响,提高了扩散均匀性,同时桨的清洗周期大幅度延长。
◆高精度温度控制
新型炉体设计,提高了温度稳定性;配合高精度温控仪的使用,保证工艺过程中温度的快速稳定。
◆高性能进口元器件组合
关键件采用进口管件,且为半导体级别;优质的元器件组合,从而保证成膜质量。
三、扩散炉主要技术参数
◆工艺管数量:1-4管
◆工艺管口径:Φ90-360mm(3~12英寸)
◆工作温度范围:400~1280℃
◆恒温区长度及精度±0.5℃/1080mm
◆工艺均匀性:≤±5%(30~60欧姆)
◆气体流量设定精度:±1%F.S
◆气路系统气密性: 1×10-7pa.m3/s
◆超净工作台:净化等级:100级(万级厂房) 噪音:≤62dB(A) 震动:≤3μm
◆控制方式: 工业微机控制
◆记录工艺曲线数量及工艺步数不受限制
我公司可根据客户要求,专业定制各式扩散炉、退火炉、烧结炉、真空焊接炉、CVD炉、加热
电炉及加热装置等,欢迎广大客户来电咨询。
扩散炉是我公司根据客户需求个性化专业定制的高温热处理设备,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,我公司的高温电炉关键部件全部采用进口部件,仿国外先进热处理制造技术,已经被中科院、国内各大院校、国内多家知名厂家选为长期供货商,专业团队设计制造,可根据客户不同需求定制,厂家直接供货,质优价廉。
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2016
扩散炉--高温扩散炉 实验扩散炉
来源:[青岛晨立电子有限公司]
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