光氧等离子一体机设备采用高能C波段光线强裂污染气体分子链，改变物质分子结构，将高分子污染物质裂解、氧化成为低分子无害物质，如水和二氧化碳等。O3强催化氧化剂进行废气催化氧化， 可有效地杀灭细菌，将有毒有害物质破坏且改变成为低分子无害物质。在C波段激光刺激催化剂涂层产生活性，强化催化氧化作用。
在分解过程中产生高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有极强的清除效果。O3也为强催化氧化剂进行废气催化氧化， 裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸(DNA)，再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭菌的目的
光氧催化区工作原理:通过破坏、分解、催化氧化把污染气体分解为无毒无害无味气体。采用高能C波段光线强裂污染气体分子链，改变物质分子结构，将高分子污染物质裂解、氧化成为低分子无害物质，如水和二氧化碳等。O3强催化氧化剂进行废气催化氧化, 可有效地杀灭细菌，将有毒有害物质破坏且改变成为低分子无害物质。在C波段激光刺激催化剂涂层产生活性，强化催化氧化作用。以此来达到去除废气的原理。