光伏生产用超纯水设备技术制造公司　　超纯水系统设备的脱盐核心部件为进口反渗透膜组件，超纯水系统设备通常由预处理部分，反渗透主机部分，后处理部分共同组成。

超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。

为什么光伏行业晶体管、半导体集成电路清洗一定要用超纯水

在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。集成电路(DRAM)集成度16K的要求是电阻率16兆欧以上，集成电路(DRAM)集成度64K的要求是电阻率16兆欧以上，集成电路(DRAM)集成度256K的要求是电阻率≥17 MΩ?cm，集成电路(DRAM)集成度1M的要求电阻率≥18MΩ?cm，集成电路(DRAM)集成度4M的要求电阻率≥18MΩ?cm，集成电路(DRAM)集成度16M的要求电阻率≥18.2MΩ?cm。

莱特莱德为全国多家企业、研究院提供超纯水设备，不仅水质满足客户需要，更优化设备结构提高系统回收率为客户节省成本。丰富的工程实践经验、规范化的施工管理、专业化的技术支持，让莱特莱德在超纯水领域有着不可比拟的优势。

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