狠抓术中抢救配合工作，提高抢救成功率

1、立即调配护理人员，分工合理。

2、及时听清和复述医嘱，注意力集中。

3、加强培养手术人员、护理人员抢救配合时的协调性。

4、加强培养护理人员应急能力、掌握应急预案。

5、熟悉掌握抢救器材的使用及故障排除。

6、抢救器材专人管理、定期检查、及时维修。

7、急救药品准备齐全，时刻处于备用状态。

8、手术室应双路供电。

医院净化设备与节能并驾齐驱

净化工程公司目前市场太多，大多我们在选择的时候迷茫，在这里有更好的技巧，减小尘埃对净化空调琐屑的影响。建造结构和功底配置减少净化空间，防止全室梗直净级其他设计，而换气次数大多由腌臜级别所必定。冷凝器尽量采纳局部再净化的顺序，对清洁度级别申请高的把持部位，传染琐细送风量主要取决于清洁周边体积与换气次数，如运用超净工作台、自净器、层流罩及洁净隧道等来完成局部气流高净化级其余申请。低风量化即合理地拔取换气次数可以削减送风动和耗损。削减感染空间即可降低干净琐细的风量。

净化工程洁净室中的温湿度控制

如何控制净化工程洁净室中的温湿度？净化工程洁净室中的温湿度控制如下：净化工程洁净室中的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。　　如何控制净化工程洁净室中的温湿度？净化工程洁净室中的温湿度控制如下：

　　净化工程洁净室中的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

　　净化工程具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

　　净化工程洁净室湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。